कार्यात्मक साहित्याच्या क्षेत्रातील एक आश्चर्य
म्हणूनहिराअनुप्रयोगात, त्यात विस्तृत तंत्रज्ञानाचा समावेश आहे आणि ते खूप कठीण आहे. तुलनेने कमी कालावधीत साकार करण्यासाठी विविध क्षेत्रात सहकार्यात्मक संशोधन आवश्यक आहे. भविष्यात, CVD हिऱ्यांच्या वाढीच्या तंत्रज्ञानाचा सतत विकास आणि सुधारणा करणे आणि अनुप्रयोगाचा शोध घेणे आवश्यक आहे.सीव्हीडी डायमंडध्वनीशास्त्र, प्रकाशशास्त्र आणि वीज या क्षेत्रातील चित्रपट. २१ व्या शतकात उच्च-तंत्रज्ञान विकासासाठी ते एक नवीन साहित्य बनेल. CVD चा वापर अभियांत्रिकी साहित्य आणि कार्यात्मक साहित्य दोन्हीसाठी केला जाऊ शकतो. खालील फक्त त्याच्या कार्यात्मक अनुप्रयोगांची ओळख आहे.
कार्यात्मक साहित्य म्हणजे काय? कार्यात्मक साहित्य म्हणजे उद्योग आणि तंत्रज्ञानात वापरल्या जाणाऱ्या प्रकाश, वीज, चुंबकत्व, ध्वनी आणि उष्णता यासारख्या भौतिक आणि रासायनिक कार्यांसह विविध पदार्थ, ज्यामध्ये विद्युत कार्यात्मक साहित्य, चुंबकीय कार्यात्मक साहित्य, ऑप्टिकल कार्यात्मक साहित्य, सुपरकंडक्टिंग साहित्य, बायोमेडिकल साहित्य, कार्यात्मक पडदा इत्यादींचा समावेश आहे.
कार्यात्मक पडदा म्हणजे काय? त्याची वैशिष्ट्ये काय आहेत? कार्यात्मक पडदा म्हणजे पातळ फिल्म मटेरियल ज्यामध्ये प्रकाश, चुंबकत्व, विद्युत गाळण्याची प्रक्रिया, शोषण आणि उत्प्रेरक आणि अभिक्रिया असे भौतिक गुणधर्म असतात.
पातळ फिल्म मटेरियलची वैशिष्ट्ये: पातळ फिल्म मटेरियल हे सामान्य द्विमितीय साहित्य असते, म्हणजेच ते दोन स्केलवर मोठे असतात आणि तिसऱ्या स्केलवर लहान असतात. सामान्यतः वापरल्या जाणाऱ्या त्रिमितीय बल्क मटेरियलच्या तुलनेत, त्यात कामगिरी आणि संरचनेत अनेक वैशिष्ट्ये आहेत. सर्वात मोठे वैशिष्ट्य म्हणजे तयारी दरम्यान विशेष पातळ फिल्म तयार करण्याच्या पद्धतींद्वारे कार्यात्मक चित्रपटांचे काही गुणधर्म प्राप्त केले जाऊ शकतात. म्हणूनच पातळ फिल्म फंक्शनल मटेरियल लक्ष आणि संशोधनाचा एक चर्चेचा विषय बनले आहेत.
म्हणूनद्विमितीय साहित्य, पातळ फिल्म मटेरियलचे सर्वात महत्वाचे वैशिष्ट्य म्हणजे तथाकथित आकार वैशिष्ट्य, ज्याचा वापर विविध घटकांचे सूक्ष्मीकरण आणि एकत्रित करण्यासाठी केला जाऊ शकतो. पातळ फिल्म मटेरियलचे अनेक उपयोग या मुद्द्यावर आधारित आहेत, त्यापैकी सर्वात सामान्य म्हणजे एकात्मिक सर्किटमध्ये आणि संगणक स्टोरेज घटकांची स्टोरेज घनता वाढवण्यासाठी.
लहान आकारामुळे, पातळ फिल्म मटेरियलमधील पृष्ठभाग आणि इंटरफेसचे सापेक्ष प्रमाण तुलनेने मोठे आहे आणि पृष्ठभागावर प्रदर्शित होणारे गुणधर्म अत्यंत प्रमुख आहेत. पृष्ठभागाच्या इंटरफेसशी संबंधित भौतिक प्रभावांची मालिका आहे:
(१) प्रकाश हस्तक्षेप परिणामामुळे होणारे निवडक प्रसारण आणि परावर्तन;
(२) इलेक्ट्रॉन आणि पृष्ठभागाच्या टक्करमुळे होणारे अलवचिक विखुरणे चालकता, हॉल गुणांक, विद्युत् चुंबकीय क्षेत्र परिणाम इत्यादींमध्ये बदल घडवून आणते;
(३) फिल्मची जाडी इलेक्ट्रॉनच्या सरासरी मुक्त मार्गापेक्षा खूपच लहान असल्याने आणि इलेक्ट्रॉनच्या ड्रोबी तरंगलांबीजवळ असल्याने, फिल्मच्या दोन पृष्ठभागांमध्ये पुढे-मागे फिरणारे इलेक्ट्रॉन व्यत्यय आणतील आणि पृष्ठभागाच्या उभ्या हालचालीशी संबंधित ऊर्जा स्वतंत्र मूल्ये घेईल, ज्यामुळे इलेक्ट्रॉन वाहतुकीवर परिणाम होईल;
(४) पृष्ठभागावर, अणूंचे वेळोवेळी व्यत्यय येतो आणि पृष्ठभागाची ऊर्जा पातळी आणि निर्माण होणाऱ्या पृष्ठभागाच्या अवस्थांची संख्या पृष्ठभागाच्या अणूंच्या संख्येइतकीच असते, ज्याचा अर्धवाहक सारख्या कमी वाहक असलेल्या पदार्थांवर मोठा परिणाम होईल;
(५) पृष्ठभागावरील चुंबकीय अणूंच्या शेजारील अणूंची संख्या कमी होते, ज्यामुळे पृष्ठभागावरील अणूंचा चुंबकीय क्षण वाढतो;
(६) पातळ फिल्म मटेरियल इत्यादींची अॅनिसोट्रॉपी.
पातळ फिल्म मटेरियलच्या कामगिरीवर तयारी प्रक्रियेचा परिणाम होत असल्याने, तयारी प्रक्रियेदरम्यान त्यापैकी बहुतेक पदार्थ समतोल स्थितीत नसतात. म्हणून, पातळ फिल्म मटेरियलची रचना आणि रचना समतोल स्थितीने मर्यादित न राहता विस्तृत श्रेणीत बदलता येते. म्हणून, लोक असे अनेक पदार्थ तयार करू शकतात जे मोठ्या प्रमाणात पदार्थांसह साध्य करणे आणि नवीन गुणधर्म मिळवणे कठीण आहे. हे पातळ फिल्म मटेरियलचे एक महत्त्वाचे वैशिष्ट्य आहे आणि पातळ फिल्म मटेरियल लोकांचे लक्ष वेधून घेण्याचे एक महत्त्वाचे कारण आहे. रासायनिक किंवा भौतिक पद्धती वापरल्या गेल्या तरी, डिझाइन केलेली पातळ फिल्म मिळवता येते.